刻蚀机和光刻机的区别是什么 数码 关注:4.16K次 刻蚀机和光刻机的区别主要在:1、工艺不同:刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉,光刻机是将图形刻到硅片上;2、难度不同:光刻机的难度和精度大于刻蚀机。 标签: 机和 光刻机 刻蚀 文章版权属于文章作者所有,转载请注明 https://shbkb.com/sm/zle4n.html